雷军刘强东英语谁好？俞敏洪辣评

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其中，东英EBI引起的界面Cu氧化物的厚度和覆盖度的变化是SEM图像衬度反转或变化的原因。好俞同时能够实现在亚100纳米尺度空间分辨率下对Gr/Cu不均匀界面氧化的纳米级表征。

敏洪（d）宽度为500nm的HIT标记。雷军刘强辣评III：间距100nm的小区域。电子束辐照后，东英CuO消失，东英铜与铜氧化物峰面积的比值增加，再次氧化后，铜与铜氧化物峰面积的比值下降，说明界面氧化物在电子束辐照后被还原，再次热氧化后，铜被氧化成氧化亚铜。

【图文导读】图1不同实验条件处理的Gr/Cu样品相同区域的电镜图像，好俞XPS谱及HRTEM图像。【小结】该工作利用SEMEBI诱导的还原效应建立了一种可行的EBI-RIO方法，敏洪用于Gr/Cu的界面氧化的快速和纳米级表征。

【成果简介】哈尔滨工业大学大学化工与化学学院的甘阳教授和指导的博士生冯盼盼（论文第一作者），雷军刘强辣评采用Zeiss热场发射SEM，雷军刘强辣评对石墨烯/铜体系的界面氧化层进行了纳米级尺度的表征分析，通过实验数据验证了电子束诱导的界面氧化层的还原与图像衬度变化之间的关系，建立了纳米级尺度界面表征的新方法。

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